フォトリソグラフィ向けUV-LED露光システム
半導体およびPCBメーカーでは、近紫外線（NUV）領域（i線：365 nm、h線：405 nm、g線：436 nm）の高出力光を用いたフォトリソグラフィにより、微細で高精度なパターンを形成しています。このフォトリソグラフィ技術は、集積回路（IC）、パワーデバイス、化合物半導体（LED、レーザーダイオード、太陽電池）、MEMS、マイクロ流体デバイス、さらには3Dパッケージングや先端パッケージングなど、幅広い半導体デバイスの製造を支えています。
長年にわたり、フォトリソグラフィ用の広帯域UV照射装置には、水銀放電ランプが標準的な光源として使用されてきました。しかし、近年のUV-LED技術の進歩により、その状況は大きく変わりつつあります。UV-LEDは、水銀ランプと比較して安全性・信頼性に優れ、ランニングコストの低減にも貢献します。また、既存のUV露光装置のアップグレードや、新規装置の開発にも適した光源です。Primeliteの先進的なUV-LED光源をサブシステムとして組み込むことで、フォトリソグラフィ装置の性能向上や長寿命化を実現できます。
UV-LED マスクアライナー
UV-LED光源を搭載したマスクアライナーは、フォトリソグラフィの近接露光およびコンタクト露光（ソフトコンタクト、ハードコンタクト、真空コンタクト）に最適で、高精度なパターン形成を実現します。
UV-LED ダイレクトイメージング
量産向けDMD/DLP®プロジェクションシステムでは、高出力かつ均一な照明を実現する高性能なUV光源が求められます。Primeliteは、市場トップクラスの性能を備えたDMD/DLP®向けUV-LEDイルミネーターを提供しています。
UV-LED ウェハーエッジ露光
PrimeliteのUV-LEDスポットライト光源は、ウェハーエッジ露光に最適です。水銀アークランプのi線（365 nm）、h線（405 nm）、g線（436 nm）に対応しており、既存の露光システムをUV-LEDへスムーズに置き換えることができます。
UV-LEDコリメート露光
従来の水銀ランプに代わる光源として、UV-LEDが注目されています。Primeliteの広帯域UV-LED光源は、安全性と信頼性を向上させるとともに、運用コストの削減にも貢献し、次世代のフォトリソグラフィ装置に最適なソリューションを提供します。
UV-LEDフォトマスク検査
フォトマスク検査装置向けに、水銀アークランプから光ファイバー結合型UV-LED光源への置き換えを実現します。PrimeliteのUV-LED露光システムは、高い信頼性と長寿命を備え、既存装置のアップグレードにも適しています。