マスクアライナーは、MEMS、化合物半導体、パワーデバイス、マイクロ流体デバイスなどのバックエンド工程におけるフォトリソグラフィで重要な役割を担っています。近年では、ウェハーレベル・チップスケール・パッケージ(WLCSP)、ファンアウト・ウェハーレベル・パッケージ(FOWLP)、フリップチップ実装、3D-IC/シリコン貫通電極(TSV)、バンピング、2.5Dインターポーザーといった先端パッケージング技術の普及により、より高密度で複雑な微細構造の形成が求められています。そのため、高精度な位置合わせと露光を実現するマスクアライナーの重要性がますます高まっています。
手動、半自動、自動のマスクアライナーは、研究開発向けの少量試作から量産ラインまで、幅広いフォトリソグラフィ工程で使用されています。 PrimeliteのUV-LED露光システム (ALE/1、ALE/1C、および ALE/2)は、さまざまなマスクアライナーへの組み込みに対応し、幅広い露光用途で200 W、350 W、500 Wの小型水銀ランプから、750 W、1,000 W、1,500 Wの中型水銀ランプまで置き換えることができます。 また、i線(365 nm)のみを使用するプロセスでは、最大5,000 W級の従来型水銀ランプに匹敵する照射性能を実現します。
PrimeliteのUV-LED光源を搭載したマスクアライナーは、コンタクト露光(ソフトコンタクト、ハードコンタクト、真空コンタクト)および近接露光において優れた露光性能を発揮します。優れた照度均一性と2°未満の高いコリメーション性能により、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ以上の基板に対して、最大0.7μmの高解像度パターン形成を実現します。 また、UV-LEDは長寿命でメンテナンスの負担が少なく、高い出力安定性を備えています。ウォームアップやクールダウンが不要なため、装置の稼働率とスループットの向上に貢献するとともに、トータルコスト(TCO)の削減にも貢献します。
PrimeliteのUV-LED露光ソリューションは、従来のランプハウスを置き換えることができます。UV-LEDの採用により、プライマリービームフォールディングミラー、450nm以上の不要な光を除去するヒートフィルター、機械式シャッターなど、従来必要だった光学部品を削減できます。 さらに、LEDパフォーマンスオプティクスは、従来の均一化光学系やコンデンサーレンズの代替として使用できます。 水銀ランプをUV-LEDへアップグレードする方法は、用途や装置構成に応じて複数の選択肢があります。
PrimeliteのUV-LEDソリューションは、さまざまなマスクアライナーに合わせてカスタマイズできます。既存のランプハウスをUV-LED光源へ置き換えるレトロフィットにも対応しており、装置を大幅に改造することなくUV-LED化を実現できます。





PrimeliteのUV-LED露光システムは、水銀ランプと同等の波長特性に対応しているため、既存のフォトリソグラフィ装置をUV-LEDへ移行する際も、最小限の設計変更で導入できます。広帯域UV仕様に加え、i線(365nm)専用仕様や、365nm/405nmのデュアルピーク仕様もラインアップしており、用途やプロセスに応じて最適な波長構成を選択できます。
| ウェハーサイズ | 6" | 8" | 12" | |||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 放射照度 [mW/cm2] | 広帯域 | i線 | 広帯域 | i線 | 広帯域 | i線 |
ALE/11 | 90 | 37 | 50 | 22 | — | — |
ALE/1C1,3 | 120 | 50 | 70 | 30 | — | — |
ALE/22,3 | — | — | 130 | 130 | 50 | 50 |
水銀ランプ(典型値) | ||||||
| 350 W | 50 | 25 | 25 | 12 | — | — |
| 500 W | 75 | 37 | 35 | 17 | — | — |
| 1,000 W | 150 | 75 | 70 | 35 | — | — |
| 5,000 W2 | — | — | 250 | 130 | 100 | 50 |
1Ø150 mmから始まるラウンド露光領域
2200 X 200 mmから始まる2正方形露光面積
3スタンダードモード;チラー付きパフォーマンスモードではさらに20%の出力を得られます
