広帯域UV対応ステッパー(1Xステッパー、ミニステッパー)は、ファンアウト・ウェハーレベル・パッケージ(FOWLP)、ウェハーレベル・チップスケール・パッケージ(WLCSP)、シリコン貫通ビア(TSV)などの先端パッケージングに欠かせない露光装置です。これらのステップ・アンド・リピート方式のステッパーは、MEMSや化合物半導体などにおける高精度な微細パターン形成に広く使用されています。
広帯域UV-LED光源ALE/1およびALE/1Cは、既存のステッパーをUV-LED光源へアップグレードするための最適なソリューションです。UV-LED光源の採用により、使用可能な感光材料の選択肢が広がり、さまざまな先端パッケージングプロセスに柔軟に対応できます。
ALEシリーズは、独自のモジュール構成を採用しています。i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)の各UV-LEDモジュールを組み合わせることで、350~450nmの広帯域UVにおける波長構成を柔軟に最適化できます。また、高出力設計により、最大1,000W級以上の従来型水銀アークランプの置き換えにも対応します。ランプ交換による装置のダウンタイムや、水銀ランプの廃棄・管理に伴う負担を軽減し、装置の稼働率向上とメンテナンスコストの削減に貢献します。PrimeliteのUV-LED光源をステッパーなどのフォトリソグラフィ装置へ統合することで、水銀ランプに起因するこれらの課題を解決できます。
PrimeliteのUV-LED光源は、多くの半導体製造プロセスで採用され、その性能と信頼性が実証されています。ステッパーに統合することで、1µmからサブミクロン領域までの高解像度な露光を実現します。高出力、高い出力安定性、優れた信頼性により、スループット(WPH:Wafer Per Hour)の向上とトータルコスト(TCO)の削減に貢献します。
PrimeliteのUV-LED露光ソリューションは、従来のランプハウスを置き換えるために設計されています。UV-LED光源の採用により、主ビーム折り返しミラー、熱線吸収フィルター、シャッターなど、従来必要だった光学部品を削減または不要にできます。さらに、LEDパフォーマンスオプティクスは、多くのシステムで従来の均一化光学系やコンデンサーレンズの代替として使用でき、システムの簡素化とコスト削減に貢献します。既存のステッパーを水銀ランプからPrimeliteのUV-LED光源へアップグレードする方法は、主に以下の2つです。:
いずれのソリューションも、お客様のステッパーの仕様に合わせてカスタマイズ可能です。また、既存システムのランプハウスをUV-LED光源へ置き換えるレトロフィットにも対応しています。




多くのフォトリソグラフィプロセスでは、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)による広帯域UV露光が採用されています。PrimeliteのUV-LED露光システムは、水銀ランプと同等の波長構成に対応しているため、既存のステッパーをUV-LED光源へアップグレードする際も、最小限の設計変更で導入できます。また、365nm/405nmまたは405nm/436nmのデュアルピーク仕様も用意しており、プロセス要件に応じた波長構成を選択できます。
| 出力 [mW] | 広帯域 (350 〜 450 nm) | i線 (355 〜 385 nm) |
|---|---|---|
ALE/1 | 30,000 | 10,000 |
ALE/1C1 | 40,000 | 17,000 |
水銀ランプ(典型値) | ||
| 500 W | 25,000 | 12,000 |
| 1,000 W | 50,000 | 25,000 |
1スタンダードモード;チラー付きパフォーマンスモードではさらに20%の出力を得られます
PrimeliteのUV-LED露光システムは、0~100%の高速オン/オフ切り替えを1ms未満で実現します。内部のクローズドループフィードバック制御により、短時間露光から長時間露光まで安定した照射出力を維持します。この高い出力安定性により、タイマー制御のみで50msの短時間露光においても±0.2%の露光線量精度を実現します。露光時間が長くなるほど、線量精度はさらに向上します。
